產(chǎn)品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
新聞詳情
旋轉(zhuǎn)勻膠機(jī)的工作原理介紹
日期:2024-12-23 03:35
瀏覽次數(shù):729
摘要:
旋轉(zhuǎn)勻膠機(jī)設(shè)備主要用于晶片涂光刻膠,有自動(dòng)、手動(dòng)和半自動(dòng)三種工作方式。 送片盒中的晶片,自動(dòng)送到承片臺(tái)上,用真空吸附,在主軸電機(jī)的帶動(dòng)下旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速100—9900轉(zhuǎn)/分(±10轉(zhuǎn)/分),起動(dòng)加速度可調(diào)。每道程序的持續(xù)時(shí)間,轉(zhuǎn)速、加速度、烘烤溫度、烘烤時(shí)間、預(yù)烘時(shí)間等工藝參數(shù)均可通過(guò)編程控制。 勻膠機(jī)有一個(gè)或多個(gè)滴膠系統(tǒng),可涂不同品種的光刻膠。滴膠的方式有晶片靜止或旋轉(zhuǎn)滴膠。隨著晶片尺寸的增大,出現(xiàn)了多點(diǎn)滴膠或膠口移動(dòng)式滴膠。膠膜厚度一般在500—1000nm,同一晶片和片與片間的誤差小于±5nm。滴膠泵有波紋管式和薄膜式兩種,并有流量計(jì)進(jìn)行恒量控制。對(duì)涂過(guò)膠的晶片有上下刮邊功能,去掉晶片正反面多余的光刻膠。 烘烤工位,有隧道式遠(yuǎn)紅外加熱,微波快速加熱以及電阻加熱的熱板爐等。涂膠后的晶片要按一定的升溫速率進(jìn)行烘干。烘烤過(guò)程在密封的爐子中進(jìn)行,通過(guò)抽真空排除揮發(fā)出來(lái)的有害物質(zhì)。前烘結(jié)束后,將晶片送入收片盒內(nèi)。
主軸轉(zhuǎn)速的穩(wěn)定性和重復(fù)性是決定膠膜厚度均勻性和一致性的關(guān)鍵,起動(dòng)加速度的大小是決定是否能將不同粘稠度的光刻膠甩開(kāi)并使膠均勻的決定因素。 近年來(lái)的發(fā)展趨勢(shì)是在自動(dòng)工作方式的勻膠機(jī)中加入預(yù)涂增粘劑(HMDS)的冷板和熱板工藝模塊,以增強(qiáng)光刻膠和晶片的附著力。
主軸轉(zhuǎn)速的穩(wěn)定性和重復(fù)性是決定膠膜厚度均勻性和一致性的關(guān)鍵,起動(dòng)加速度的大小是決定是否能將不同粘稠度的光刻膠甩開(kāi)并使膠均勻的決定因素。 近年來(lái)的發(fā)展趨勢(shì)是在自動(dòng)工作方式的勻膠機(jī)中加入預(yù)涂增粘劑(HMDS)的冷板和熱板工藝模塊,以增強(qiáng)光刻膠和晶片的附著力。
尊敬的客戶:
本公司還有快速退火爐、等離子清洗機(jī)、磁控濺射鍍膜儀等產(chǎn)品,您可以通過(guò)網(wǎng)頁(yè)撥打本公司的服務(wù)電話了解更多產(chǎn)品的詳細(xì)信息,至善至美的服務(wù)是我們的追求,歡迎新老客戶放心選購(gòu)自己心儀產(chǎn)品,我們將竭誠(chéng)為您服務(wù)!