- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
分體式微量氧分析儀廣泛應(yīng)用于空分制氮、冶煉行業(yè)、醫(yī)療衛(wèi)生、石油化工、電子電力等行業(yè)中氧含量的在線檢測分析。
分體式微量氧分析儀主要特點:
1) 友好人機對話菜單,操作直觀方便;
2) 中英文菜單,用戶可自由切換;
3) 采用進口雙氧化鋯氧傳感器,具有不通電不消耗壽命、測量準(zhǔn)確度高、校準(zhǔn)間隔周期長、響應(yīng)速度快、零點漂移量小等特點;
4) 量程內(nèi)任意一點校準(zhǔn)即可,無須多點校準(zhǔn)即可滿足整個量程的測量精度;
5) 恢復(fù)出廠設(shè)置功能,防止因誤操作導(dǎo)致分析儀參數(shù)設(shè)置混亂;
6) 數(shù)據(jù)自動存儲功能,可供客戶自由查閱歷史數(shù)據(jù);
7) 上下限報警點能在全量程范圍內(nèi)任意設(shè)置;
8) 標(biāo)準(zhǔn)RS232(默認)或RS485通訊接口,可與計算機實現(xiàn)雙向通訊(可選)。
測量原理 |
雙氧化鋯 |
顯示方式 |
128×64 點陣LCD |
量程可選 |
0 ~ 10/100/1000ppm,1.00%,25.00% O2 |
分辨率 |
0.1ppm |
測量精度 |
0~1000ppm /1.00%/10.00% /25.00% ≤±1% FS 0~100ppm ≤±2% FS 0~10ppm ≤±5%FS |
重復(fù)性 |
≤±1% |
響應(yīng)時間 |
T90<30S |
模擬輸出 |
4~20mA.DC(非隔離輸出,負載電阻小于500歐姆) 0-10V輸出(非隔離輸出,負載電阻大于10K歐姆) 1路可編程干觸點型無源報警輸出,觸點*大容量220VAC/2A |
通訊接口 |
RS232(默認)或RS485 |
工作電源 |
交流AC170 ~265V 50/60Hz、功耗小于10VA |
環(huán)境溫度 |
-10 ~ +50℃ |
環(huán)境濕度 |
<80%RH |
樣氣溫度 |
0 ~ 200℃(采樣管路為不銹鋼管的情況下) |
采樣方式 |
插入式(擴散式) |
樣氣壓力 |
86-106KPa,穩(wěn)壓氣氛 |
樣氣組份 |
無可燃性氣體,無腐蝕性氣體,灰塵量小于1mg/Nm3 |
規(guī)格尺寸 |
儀表,155mm×155mm×118mm(H×W×D) |
開孔尺寸 |
135mm×135mm(H×W) |
使用壽命 |
>24月(正常使用條件下) |
氣路接口 |
NPT 1/8內(nèi)螺紋 |
安裝方式 |
嵌入式安裝 |