- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
本套配置采用石英真空腔體，鍍膜過程全向可視，便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄，腔體設(shè)計(jì)開啟方便，易于清理，十分適合實(shí)驗(yàn)室使用。同時(shí)設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái)，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì)，操作邏輯簡(jiǎn)單，操作界面直觀，利于上手。
設(shè)備的真空獲得系統(tǒng)采用兩級(jí)真空泵組，前級(jí)泵為大抽速機(jī)械泵，有效縮從常壓至低真空的時(shí)間，主泵為渦輪分子泵，抽速高，真空獲取速度更快。 整體真空獲得系統(tǒng)干凈快速。
技術(shù)參數(shù)：
|
項(xiàng)目 |
明細(xì) |
|
|
產(chǎn)品型號(hào) |
CY-MSH270-I-RF-Q |
|
|
供電電壓 |
AC220V，50Hz |
|
|
整機(jī)功率 |
3KW |
|
|
系統(tǒng)真空 |
≦5×10-4Pa |
|
|
樣品臺(tái) |
尺寸 |
150mm |
|
加熱溫度 |
≤500℃ |
|
|
旋轉(zhuǎn)速度 |
1-20r/min |
|
|
控溫精度 |
±1℃ |
|
|
磁控濺射頭 |
數(shù)量 |
2英寸 x1 |
|
冷卻方式 |
水冷 |
|
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ270mm X 200mm |
|
觀察窗口 |
全向可視 |
|
|
開啟方式 |
頂蓋拆卸式 |
|
|
腔體材料 |
高純石英 |
|
|
真空系統(tǒng) |
機(jī)械泵 |
CY240 |
|
抽氣接口 |
KF16 |
|
|
抽氣速率 |
1.1L/s |
|
|
分子泵 |
CY600 |
|
|
抽氣接口 |
KF40 |
|
|
抽氣速率 |
600L/s |
|
|
排氣接口 |
KF40 |
|
|
真空測(cè)量 |
電阻規(guī)+電離規(guī) |
|
|
供電電源 |
AC;220V 50/60Hz |
|
|
氣體控制 |
1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量，量程為:200SCCM |
|
|
膜厚測(cè)量 |
可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ? |
|
|
控制系統(tǒng) |
CYKY自研專業(yè)級(jí)控制系統(tǒng) |
|
|
電源配置 |
直流電源數(shù)量 |
1臺(tái) |
|
輸出功率 |
≤500W |
|
|
輸出電壓 |
≤600V |
|
|
響應(yīng)時(shí)間 |
＜5ms |
|
|
射頻電源數(shù)量 |
1臺(tái) |
|
|
輸出功率 |
≤1000W |
|
|
功率穩(wěn)定度 |
≤5W |
|
|
測(cè)量精度 |
±0.5% |
|
|
測(cè)量速度 |
100~1000ms |
|
|
測(cè)量上限 |
50000 |
|
