- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
技術參數:
產品名稱
桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀
產品型號
CY-MSZ210-I I -DCDC-SS
樣品臺
外形尺寸
φ100mm
加熱溫度
≦500℃
可調轉速
≦20rpm
磁控靶槍
配兩支兩英寸磁控靶,靶材尺寸:直徑50.8mm,厚度≦3mm
真空腔體
腔體尺寸
φ210mm X260mm
觀察窗口
全向透明
腔體材料
304不銹鋼
開啟方式
上蓋拆卸式
真空系統
前級泵
低噪音雙極旋片泵
分子泵
低噪音大抽速渦輪分子泵
真空測量
復合真空計,量程:10-5~105Pa
抽氣接口
KF16
抽氣接口
KF40
排氣接口
KF16
系統真空
1.0×10-4Pa
供電電源
AC 220V 50/60Hz
抽氣速率
分子泵抽速600L/s,前級泵抽速1.1L/s
電源配置
電源數量
直流電源兩套
輸出功率
500W
其他參數
供電電壓
AC220V,50Hz
整機功率
4kW
整機尺寸
550mm X 350mm X900mm