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R-PECVD真空旋轉(zhuǎn)等離子增強(qiáng)CVD設(shè)備(1200℃單溫區(qū) 4路MFC)設(shè)備由旋轉(zhuǎn)及傾斜機(jī)構(gòu)、單溫區(qū)管式爐、等離子發(fā)生機(jī)構(gòu)、質(zhì)量流量計(jì)供氣系統(tǒng)、高真空分子泵組等部分構(gòu)成。
特點(diǎn):
1. 相比于其他的石墨烯制備設(shè)備,能提供更高的基底真空,提高產(chǎn)物質(zhì)量;2. 能夠利用旋轉(zhuǎn)和傾斜機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn),使顆粒型樣品表面均勻生長(zhǎng)產(chǎn)物;
3. 等離子發(fā)生裝置能夠顯著降低反應(yīng)溫度,提高反應(yīng)效率。
技術(shù)參數(shù):
單溫區(qū)管式爐 |
產(chǎn)品型號(hào) |
CY-OTF-1200X-I-PEC4 |
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爐管材質(zhì) |
高純石英 |
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爐管直徑 |
100mm |
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爐管長(zhǎng)度 |
1500mm |
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爐膛長(zhǎng)度 |
440mm |
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加熱區(qū)長(zhǎng) |
400mm |
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恒溫區(qū)長(zhǎng) |
200mm |
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工作溫度 |
0~1100℃ |
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控溫精度 |
±1℃ |
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控溫模式 |
30段或50段程序控溫 |
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顯示模式 |
高清全彩LCD觸控屏 |
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密封方式 |
304不銹鋼真空法蘭 |
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供電電源 |
AC:220V 50/60Hz |
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RF輸出系統(tǒng) |
功率范圍 |
0~500W可調(diào) |
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工作頻率 |
13.56MHz+0.005% |
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工作模式 |
連續(xù)輸出 |
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匹配阻抗模式 |
能夠匹配,起輝均勻布滿爐管 |
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功率穩(wěn)定度 |
≤2W |
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正常工作反射功率 |
≤3W |
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放大反射功率 |
≤70W |
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諧波分量 |
≤-50dBc |
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整機(jī)效率 |
≥70% |
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功率因素 |
≥90% |
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供電電壓/頻率 |
單相交流(187V~153V) 頻率50/60Hz |
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控制模式 |
內(nèi)控/PLC 模擬量/RS232/485通訊 |
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電源保護(hù)設(shè)置 |
DC過流保護(hù),功放過溫保護(hù),反射功率保護(hù) |
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冷卻方式 |
強(qiáng)制風(fēng)冷 |
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起輝長(zhǎng)度 |
在Ar下射頻電源與線圈配合起輝輝光能布滿爐管 |
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供氣系統(tǒng) |
流量計(jì) |
四路質(zhì)子流量計(jì) |
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流量范圍 |
MFC1量程:0~200sccm MFC2量程:0~200sccm MFC3量程:0~500sccm MFC4量程:0~500sccm 分別對(duì)應(yīng)氣體H2、 CH4、 N2、 Ar. |
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測(cè)量精度 |
±1.5%F.S |
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重復(fù)精度 |
±0.2%FS |
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線性精度 |
±1%F.S. |
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響應(yīng)時(shí)間 |
≤4s |
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工作壓力 |
-0.15Mpa~0.15Mpa |
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流量控制 |
液晶觸摸屏控制,數(shù)字顯示,每路氣體含有針閥單獨(dú)控制 |
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進(jìn)氣接口 |
可接1/4NPS或者外徑6mm不銹鋼管 |
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出氣接口 |
可接1/4NPS或者外徑6mm不銹鋼管 |
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連接方式 |
雙卡套接頭 |
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工作溫度 |
5~45℃ |
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氣體預(yù)混 |
配氣體預(yù)混裝置 |
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排氣系統(tǒng)
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產(chǎn)品型號(hào) |
CY-GZK103-A |
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分子泵 |
渦輪分子泵 |
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前級(jí)泵 |
雙級(jí)旋片泵 |
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抽氣速率 |
分子泵:600L/S |
綜合抽氣性能:30分鐘真空度可達(dá):5×10E-3Pa |
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旋片泵:1.1L/S |
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極限真空 |
5×10E-4Pa |
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抽氣接口 |
KF40 |
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排氣接口 |
KF16 |
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真空測(cè)量 |
復(fù)合真空計(jì) |
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旋轉(zhuǎn)及傾斜裝置 |
轉(zhuǎn)速范圍 |
0-20rpm |
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傾斜角度 |
0-15° |
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進(jìn)出料 |
自動(dòng)進(jìn)料,傾斜后可自動(dòng)集料 |