- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
雙面浸涂實驗涂布機是一款采用浸漬涂布工藝的涂布機,可選用線棒對涂層進行計量。可低張力收放卷,配置紅外加熱干燥箱及過程糾偏裝置,選配靜電消除器及浸漬盒類型。設備結構簡單、操作方便、生產效率高、適用范圍廣,可應用于鋰離子電池、石墨烯薄膜、陶瓷薄膜、**膠帶以及各種功能薄膜行業。
功能特點:
- 雙面連續浸涂。
- 線棒計量,控制涂覆厚度和均勻度。
- 紅外干燥烘箱,溫度和風量可調節。
- 走帶穩定,可實現低張力走帶。
- 主動展平輥導向,速度可調。
- 蠕動泵自動供料。
- 配置糾偏功能,走帶精度高
技術參數:
產品名稱 |
雙面浸涂實驗涂布機 |
|
產品型號 |
CY-CMR-300-S |
|
電 源 |
單相AC220V±10%,頻率50Hz ,功率3KW |
|
氣 源 |
0.5-0.8MPa 壓縮空氣 |
|
涂布方式 |
浸漬涂布 |
|
涂布類型 |
連續涂布 |
|
收放卷徑 |
Max:300mm |
|
導輥幅寬 |
300mm |
|
機械速度 |
Max:1m/min |
|
涂布精度 |
±3μm(負極漿料,粘度1000CP,固含量35.5%,線棒規格80μm)。 |
|
涂布厚度 |
濕膜厚度6-200μm(參考值,線棒涂布),與漿料參數、線棒型號相關。 覆蓋箔的厚度可在0.1 m - 1mm之間調節 |
|
線棒規格 |
直徑10mm,有效長度300mm; 6μm、8μm、10μm、12μm、 15μm、20μm、25μm、30μm、40μm、50μm、60μm、 70μm、80μm、100μm、120μm、150μm、200μm 以上為濕膜厚度參數,與涂料參數相關,僅供參考 |
|
紅外干燥烘箱 |
方式 |
碳纖維紅外燈管加熱 |
風量 |
Max:402m3/h,風閥調節 |
|
溫度 |
Max:150℃ |
|
功率 |
2KW |
|
長度 |
500mm |
|
張力大小 |
6-60N |
|
糾偏精度 |
±0.5mm |
|
浸漬盒 |
標配 |
涂布時*小容量Min:0.3L |
選配一 |
涂布時*小容量Min:0.7L,預留冷卻水接口 |
|
選配二 |
涂布時*小容量Min:2.7L,預留冷卻水接口 |
|
設備尺寸 |
L980mm*W750mm*H1420mm |
|
重 量 |
約540kg |