- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
本產品為專為高真空設計的桌面型小型蒸發鍍膜儀,可提供*大100A的鍍膜電流,*大蒸發溫度可達1800℃,能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。真空腔體采用不不銹鋼制作,出廠經過除氣處理,配合分子泵組可達到5x10-5Pa極限真空,能夠滿足絕大部分材料蒸發所需的真空環境。真空腔體采用上掀蓋開啟方式,便于取放樣,腔體上配置有帶擋板的適應觀察窗,用于觀察鍍膜過程,擋板則可以有效防止觀察窗被膜料污染。。
小型高真空熱蒸發鍍膜儀用途:
本儀器適用于蒸發涂覆大多數金屬和某些有機材料薄膜。
小型高真空熱蒸發鍍膜儀技術參數:
小型高真空熱蒸發鍍膜儀
產品型號
CY-EVZ180-I-H-SS
樣品臺
尺寸
φ60mm
轉速
1-20rpm可調
至蒸發源間距
60mm~100mm可調
蒸發系統
蒸發源
鎢絲籃
熱電偶
S型熱電偶
*高溫度
1700℃
真空腔體
腔體尺寸
φ170mm× 210mm
觀察窗口
石英觀察窗 φ80
開啟方式
上開啟式
腔體材料
不銹鋼
真空系統
產品型號
CY-GZK103-A
抽氣接口
KF40
分子泵
大阪60l/s
排氣接口
KF16
前極泵
旋片泵
真空測量
復合真空計
極限真空
1.0E-5Pa
抽氣速率
分子泵:60L/S 旋片泵:1.1L/S 綜合抽氣性能:20分鐘真空度可達: 1.0E-4Pa
其他
供電電壓
AC220V,50Hz
整機功率
1.5kw
整機尺寸
600mm× 300mm× 470mm
整機重量
40kg
免責聲明:本站產品介紹內容(包括產品圖片、產品描述、技術參數等),僅供參考。可能由于更新不及時,會造成所述內容與實際情況存在一定的差異,請與本公司銷售人員聯系確認。本站提供的信息不構成任何要約或承諾,本公司會不定期完善和修改網站任何信息,恕不另行通知,請您見諒。