- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
技術參數:
產品型號 |
金屬熔煉封管爐 |
|
產品型號 |
CY-DHLΦ200-SS-Φ4-F |
|
主要特點 |
該設備具有體積小,性能穩定,操作簡單方便等優點。 |
|
技術參數 |
電弧熔煉室:φ200mm×300mm。選用上等不銹鋼板表面經過電化學方法處理。 |
|
熔煉樣品 |
重量≤15克(以不銹鋼標定)/每熔煉池,共4個熔煉工位 |
|
封管工位 |
可焊接鉭管直徑φ5-φ14mm,長度50-100mm;工位自動旋轉,轉速可調0-45rpm。 |
|
真空度 |
標配的機械泵為:6.0E-1Pa。如果另配分子泵能達到5.0E-3Pa(標配不提供真空計) |
|
起弧方式 |
高頻引弧 |
|
額定輸入電量 |
10.4 KVA |
|
冷卻方式 |
循環水冷卻 |
|
產品規格 |
主機凈重:50kg |
|
標準配件 |
熔煉爐主機 |
1套 |
氬弧焊機 |
1臺 |
|
冷水機 |
1臺 |
|
爐架 |
1臺 |
|
真空泵 |
1臺 |
|
可選配件 |
吸鑄配件 (需購買時可聯系我司銷售) |
|
應用注意事項 |
1.任何過程中不要松動外螺母,否側會造成電極漏水。 2.整機應放置于干燥、潔凈的環境中。 3.應定期檢查管路是否通暢并及時**水垢。電極桿中間的活動關節球需要經常涂抹一些真空脂。這有助于減少密封圈的磨損,提高桿的靈活性,并且能增加熔煉室的密封效果。 4.熔煉室應保持清潔,尤其是前后觀察窗,銅坩堝等重要部位。設備在不使用時需要抽至真空狀態保存。 |