- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
一、技術特點:
1.多達六路探頭可同時監(jiān)控,每路自由設置,既能獨立運行,也可聯(lián)合工作。
2.每路二組繼電器輸出,到達設置厚度自動關閉擋板/蒸發(fā)源;
3.全觸摸屏操作顯示,簡單易用;
4.提供RS232/RS485接口,MODBUS RTU標準協(xié)議,多波特率可選,并配有專用控制軟件。
二、應用范圍:
適用于普通蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射、離子鍍等真空鍍膜厚度測量,特別適合多蒸發(fā)源鍍膜機和多腔室鍍膜機進行膜層監(jiān)控;
膜厚監(jiān)控儀的控制和顯示均通過觸摸屏實現(xiàn),使您能獲取完整的沉積數(shù)據(jù),包括速率、厚度和鍍膜時間等。
三、主要參數(shù):
CY-FTM-M4/M6多通道監(jiān)控儀
晶振頻率
6MHz(可選2.5M 3M 5M 9M晶體)
顯示方式
5”彩色觸屏+1路數(shù)碼管顯示速率和實厚
操作方式
觸摸屏
厚度顯示范圍
0-99μ9999?
厚度實際分辨率
0.1?(鋁)
厚度顯示分辨率
1?
速率范圍
0-999.9?
速率顯示分辨率
0.1?/s
鍍膜層數(shù)
99層
探頭輸入
4路/6路(可同時工作)
工具因子
0.01-99.99
材料存儲
257+自定義10種
通 訊
RS232/RS485 MODBUS
RTU協(xié)議
擋板/源控制
每路2組觸點,到達厚度關擋板/蒸發(fā)源
鍍膜顯示
數(shù)值/速率曲線
鍍膜巡回次數(shù)
0-99
機箱尺寸
480×250×89mm(2U
19”機箱)
四、特殊功能:
(1)任意設置每一路的工作狀態(tài),具有人工停止鍍膜功能;
(2)可顯示鍍膜層、材料和使用晶體振蕩頻率百分比;
(3)顯示鍍膜結束后的監(jiān)測厚度、晶振頻率、材料和層次。