- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
該設(shè)備以電子束蒸發(fā)方式鍍膜設(shè)備，主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜.
電子束蒸發(fā)鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
|
產(chǎn)品名稱 |
電子束蒸發(fā)鍍膜儀 |
|
|
產(chǎn)品型號(hào) |
CY-EBH500-SS |
|
|
樣品臺(tái) |
外形尺寸 |
<150mm，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn) |
|
可調(diào)溫度 |
≦500℃ |
|
|
電子槍 |
新型電子槍?zhuān)?/span>6孔坩堝 |
|
|
加熱燈 |
4只鹵素加熱燈用于除氣，1個(gè)氖燈用于照明 |
|
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
Φ500*H500mm |
|
觀察窗口 |
直徑φ100mm |
|
|
腔體材質(zhì) |
304不銹鋼 |
|
|
開(kāi)啟方式 |
前開(kāi)門(mén)式 |
|
|
膜厚測(cè)量 |
采用SQM160膜厚儀進(jìn)行監(jiān)控，涂層厚度不均勻度小于6%。 |
|
|
真空系統(tǒng) |
前級(jí)泵 |
雙極旋片泵，氣體抽速1.1L/S |
|
次級(jí)泵 |
渦輪分子泵,氣體抽速600L/S |
|
|
真空測(cè)量 |
復(fù)合真空計(jì)(電離規(guī)+電阻規(guī)) |
|
|
系統(tǒng)真空 |
5×10-5Pa |
|
|
水冷系統(tǒng) |
水壓<2.5bar 水壓監(jiān)測(cè) |
|
|
加熱燈 |
4只鹵素加熱燈用于除氣，1個(gè)氖燈用于照明 |
|
|
電極接口 |
帶2路金屬蒸發(fā)電極接口 |
|
|
控制系統(tǒng) |
CYKY自研專(zhuān)業(yè)級(jí)控制器 |
|
|
其他參數(shù) |
供電電源 |
AC380V,50Hz |
|
整機(jī)尺寸 |
1000mm×800mm×1500mm |
|
|
整機(jī)功率 |
20KW |
|
|
整機(jī)重量 |
350kg |
|
