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產品詳情
  • 產品名稱:等離子增強化學氣相沉積設備

  • 產品型號:CY-PECVD-240T-SS
  • 產品廠商:成越科儀
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簡單介紹:
化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,基本溫度低,沉積速率快,在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜
詳情介紹:
化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,基本溫度低,沉積速率快,在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜質量好,針孔較少,不易龜裂,適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件,可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
主要功能及特點:
PECVD設備利用平板電容式輝光放電原理,將通入沉積室的工藝氣體解離并產生等離子體,被解離的基團在等離子體中重新發生化學反應,由于等離子體存在,促進氣體分子的分解、化合、激發和電離,促進反應活性基團的生成,從而降低沉積溫度,在具有一定溫度的基片上沉積形成薄膜。可根據工藝調節等離子體的密度和能量,控制薄膜的生長速率和微結構。
產品參數:


PECVD



產品名稱

桌面式4英寸平板等離子體增強化學氣相沉積PECVD

產品型號

CY-PECVD-240T-SS

供電電源

AC220V 50Hz

射頻電源

信號頻率

13.56MHz

功率輸出范圍

0~500W (還可選擇150W, 300W, 1000W)

工作腔體

加熱溫度

RT-500℃(還可選擇600℃,800℃,1000℃等)

樣品臺尺寸

Φ100mm(兼容4英寸及以下樣品)

樣品臺轉速

1-20rpm 可調

腔體材質

不銹鋼

觀察窗

Φ60mm, 帶擋板

供氣系統

通道數

3 (可根據需要選擇其他通道數,其他氣體種類,其他測量范圍)

測量單位

質量流量計

測量范圍

A 通道: 0200SCCM for O2  

B通道: 0200SCCM for N2

C通道: 0200SCCM for Ar

真空系統

前級泵抽速

1.1L/s

分子泵抽速

60L/s

真空測量

復合真空計

真空度

5.0*10-3Pa

水冷機

水流速

10L/min

冷卻功率

50W/



豫公網安備 41019702002438號