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噴霧熱解制膜法，是將溶液霧化后噴涂到加熱的基座上，然后在基底上得到想要的物質(zhì)結(jié)構(gòu)。本設(shè)備是由我公司自主研發(fā)的一款超聲噴霧熱解設(shè)備，它配有50KHz 30W的超聲波霧化器、PID控溫的加熱襯底基板、高精度蠕動(dòng)泵以及精密程控的步進(jìn)電機(jī)移動(dòng)機(jī)構(gòu)。本設(shè)備通過(guò)整合設(shè)計(jì)能夠準(zhǔn)確控制溶液出液量、霧粒的噴出速度和霧粒大小等參數(shù)，同時(shí)基底溫度也可以進(jìn)行控制，能夠滿足您的各種試驗(yàn)需求。
超聲波熱解噴涂此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應(yīng)用中已有相當(dāng)長(zhǎng)的歷史。現(xiàn)在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽(yáng)能電池中得到廣泛的應(yīng)用。
超聲波熱解噴涂機(jī)技術(shù)參數(shù)：
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產(chǎn)品名稱 |
高溫超聲波熱解噴涂 |
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產(chǎn)品型號(hào) |
CY-TSC-250 X 250-T |
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樣品尺寸 |
250mm*250mm |
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沉積膜 |
10cm*10cm FTO透明電極 |
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供電電壓 |
AC220V，50/60Hz |
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*大功率 |
3.5KW |
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超聲波霧化器 |
50KHz 30W |
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液體粘度 |
1-50mPa·s（cP） |
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噴頭行程 |
X-Y軸 *大260mm |
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移動(dòng)速度 |
0-80mm/s （x軸方向） 0-80mm/s（Y軸方向） |
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加熱襯底基板 |
250mm X 250mm |
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*高溫度 |
500℃ |
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控溫方式 |
AI-PID 控溫 |
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排氣裝置 |
該設(shè)備設(shè)有排氣裝置，以便分解后的氣體可以從排氣口裝置排出 |
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注射方式 |
大流量注射泵 |
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通信協(xié)議 |
Windows系統(tǒng)，默認(rèn)通信端口為RS485或RS232 |
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控制方式 |
自動(dòng)觸摸屏控制 |
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尺寸 |
780x780x1500 |
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重量 |
200KG |
