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產(chǎn)品列表
  • 200mm大管徑回轉(zhuǎn)窯... 200mm大管徑回轉(zhuǎn)窯爐配有投料機構(gòu)和旋轉(zhuǎn)機構(gòu),能夠保證反應(yīng)連續(xù)均勻的發(fā)生,200mm大管徑回轉(zhuǎn)窯爐廣泛應(yīng)用于鋰電池材料...
  • 自動進料旋轉(zhuǎn)管式爐 該款管式爐CY-O1200-R100IT-AF為帶有自動進料和收集設(shè)備的可旋轉(zhuǎn)管式爐,采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu),爐體表面溫度≤6...
  • 1200℃三溫區(qū)旋轉(zhuǎn)管... 1200℃三溫區(qū)旋轉(zhuǎn)管式爐,采用高純石英制作變徑石英管,專為粉末處理設(shè)計。旋轉(zhuǎn)裝置采用摩擦傳動,傾角(0-15°)任意可...
  • 1600雙溫區(qū)真空旋轉(zhuǎn)... 鄭州成越科儀真空旋轉(zhuǎn)管式爐采用7英寸液晶屏做控制系統(tǒng),具有簡單易學(xué),操作方便,智能化程度高。鄭州成越科儀真空旋轉(zhuǎn)管式爐主...
  • 1200℃單溫區(qū)旋轉(zhuǎn)管... 1200℃開啟式單溫區(qū)旋轉(zhuǎn)管式爐,采用高純石英制作爐管。旋轉(zhuǎn)裝置為半導(dǎo)體致冷法蘭,摩擦傳動,傾角(0~15°)任意可調(diào)。...
  • 1200℃雙溫區(qū)旋轉(zhuǎn)管... 1200℃開啟式雙溫區(qū)旋轉(zhuǎn)管式爐,采用高純石英制作爐管。旋轉(zhuǎn)裝置為半導(dǎo)體致冷法蘭,摩擦傳動,傾角(0~15°)任意可調(diào)。...
  • 1200℃三溫區(qū)旋轉(zhuǎn)管... 1200℃開啟式雙溫區(qū)旋轉(zhuǎn)管式爐,采用高純石英制作爐管。旋轉(zhuǎn)裝置為半導(dǎo)體致冷法蘭,摩擦傳動,傾角(0~15°)任意可調(diào)。...
  • PEALD等離子增強原... 等離子增強原子層沉積(PEALD)系統(tǒng)是一種先進的薄膜沉積技術(shù),結(jié)合了等離子體和原子層沉積(ALD)的優(yōu)點,以實現(xiàn)更高的...
  • 等離子增強化學(xué)氣相沉積... 化學(xué)氣相沉積采用等離子體增強型化學(xué)氣相沉積技術(shù),基本溫度低,沉積速率快,在光學(xué)玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉...
  • 等離子體增強型化學(xué)氣相... 化學(xué)氣相沉積采用等離子體增強型化學(xué)氣相沉積技術(shù),能夠利用高能量等離子體促進反應(yīng)過程,有效提升反應(yīng)速度,降低反應(yīng)溫度。適用...
  • CVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) CVD氣相沉積系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)和工程領(lǐng)域,用于制備各種功能性薄膜,如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳納米管等。...
  • PECVD氣相沉積 PECVD氣相沉積在超大規(guī)模集成電路、光電器件、MEMS等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用
  • 雙溫區(qū)CVD化學(xué)氣相沉... CVD(化學(xué)氣相沉積)氣相沉積系統(tǒng)是一種常用的薄膜制備技術(shù),通過在高溫下將氣體反應(yīng)物質(zhì)與基底表面反應(yīng),形成薄膜
  • 三溫區(qū)PECVD石墨烯... 三溫區(qū)PECVD廣泛用于石墨烯制備,顆粒包覆等科學(xué)實驗上
  • 熱陰極直流等離子體化學(xué)... 熱陰極直流等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備(DCCVD)是在常規(guī)冷陰極輝光放電基礎(chǔ)上發(fā)展起來的,主要用于金剛石單晶或多晶膜的沉積...
  • 卷對卷PECVD石墨烯... 卷對卷PECVD石墨烯制備設(shè)備主要應(yīng)用于計算機和智能手機屏幕,超輕、柔性的太陽能電池,以及新型的發(fā)光設(shè)備和其他薄膜電子產(chǎn)...
  • PECVD-R?旋轉(zhuǎn)等... 本產(chǎn)品為PECVD-R?旋轉(zhuǎn)等離子加強CVD設(shè)備。PECVD-R?旋轉(zhuǎn)等離子加強CVD設(shè)備十分適合在氣氛保護的環(huán)境下連續(xù)...
  • PE-HPCVD等離子... PE-HPCVD等離子增強物理化學(xué)氣相沉積由一臺雙溫區(qū)管式爐,一套鎢絲蒸發(fā)源,一套等離子發(fā)生裝置以及一套質(zhì)量流量計組成。...
  • PECVD鍍膜儀 CY-PECVD-450化學(xué)氣相沉積采用等離子體增強型化學(xué)氣相沉積技術(shù),能夠利用高能量等離子體促進反應(yīng)過程,有效提升反應(yīng)...
  • 單溫區(qū)旋轉(zhuǎn)PECVD石... 單溫區(qū)旋轉(zhuǎn)PECVD,安裝有真空自動投料器,爐管尾部預(yù)留KF40接口可以連接收料罐。投料器采用螺桿進料,可以以額定的速率...
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