- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件,不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜,也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或者其他金屬單質(zhì)的薄膜。為了提高鍍膜質(zhì)量,本臺(tái)二合一鍍膜儀采用的不銹鋼真空腔體配合精密分子泵的高真空設(shè)計(jì),較高的真空度能夠有效的提升鍍膜純凈度和均勻度,有利于得到更好的實(shí)驗(yàn)效果。樣品臺(tái)有旋轉(zhuǎn)和加熱功能,能夠提高薄膜的附著力和成膜的均勻度。本儀器體積小,節(jié)省空間,能夠置于試驗(yàn)臺(tái)上使用,非常適合各大高校及研究機(jī)構(gòu)選用。
小型高真空二合一鍍膜儀適用范圍:
掃描電鏡樣品表面噴金、蒸金噴碳等操作,以及非導(dǎo)體材料試驗(yàn)電極的制作等。
小型高真空二合一鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
小型高真空二合一鍍膜儀 |
||||
樣品臺(tái) |
尺寸 |
φ138mm |
控溫精度 |
±1℃ |
加熱溫度 |
*高500℃ |
轉(zhuǎn)速 |
1-20rpm可調(diào) |
|
直流濺射頭 |
數(shù)量 |
2”×1 |
|
|
蒸發(fā)系統(tǒng) |
蒸發(fā)源 |
鎢絲籃 |
*高溫度 |
1700℃ |
熱電偶 |
S型熱電偶 |
|
|
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ170mm×200mm |
觀察窗口 |
石英觀察窗 φ70 |
腔體材料 |
不銹鋼 |
開啟方式 |
上開啟式 |
|
真空系統(tǒng) |
產(chǎn)品型號(hào) |
CY-GZK103-A |
抽氣接口 |
KF40 |
分子泵 |
CY-600 |
排氣接口 |
KF16 |
|
前極泵 |
旋片泵 |
真空測量 |
復(fù)合真空計(jì) |
|
極限真空 |
1.0E-5Pa |
|||
抽氣速率 |
分子泵:600L/S 旋片泵:1.1L/S 綜合抽氣性能:20分鐘真空度可達(dá): 1.0E-3Pa |
|||
濺射電源配置 |
數(shù)量 |
直流電源×1 |
Max 輸出功率 |
150w |
其他 |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
整機(jī)尺寸 |
600mm×300mm×470mm |
整機(jī)功率 |
1.5kw |
整機(jī)重量 |
40kg |
免責(zé)聲明:本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等),僅供參考??赡苡捎诟虏患皶r(shí),會(huì)造成所述內(nèi)容與實(shí)際情況存在一定的差異,請(qǐng)與本公司銷售人員聯(lián)系確認(rèn)。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾,本公司會(huì)不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息,恕不另行通知,請(qǐng)您見諒。