- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
本產品為二合一鍍膜儀,可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM(掃描電鏡)的樣品制備。設備主要由石英真空室、等離子濺射靶,蒸發鍍膜裝置,放置樣品的樣品臺,真空泵機組、真空測量規管,進氣系統和控制系統組成。
設備主機采用觸摸顯示屏操作,溫控表檢測。其數字化參數界面和自動化操作方式為用戶提供了優良的研發平臺。真空室采用上中下結構,樣品臺與靶的距離靈活可調。
設備真空獲得系統采用上等雙極旋片泵。 具有體積小,噪音小,無油污污染等優點。
真空腔體采用石英加工而成,呈現圓柱結構,外形美觀,大方。主要密封法蘭采用 KF 系列高真空密封法蘭。真空腔體各接口均采用橡膠密封圈密封,真空性能優良,能有效鍍膜質量。
技術參數:
樣品臺 |
φ80mm |
至蒸發源間距 |
20mm~50mm可調 |
φ80mm |
|
直流濺射頭 |
數量 |
2” x1 |
蒸發系統
|
蒸發源 |
鎢絲籃 |
*高溫度 |
1700℃ |
|
熱電偶 |
S型熱電偶 |
|
真空腔體
|
腔體尺寸 |
φ180mm X 150mm |
觀察窗口 |
全向透明 |
|
腔體材料 |
高純石英 |
|
開啟方式 |
頂蓋拆卸式 |
|
真空系統
|
機械泵 |
GHD-031B |
抽氣接口 |
KF16 |
|
真空測量 |
電阻規 |
|
排氣接口 |
KF16 |
|
極限真空 |
10E-1Pa |
|
供電電源 |
AC;220V 50/60Hz |
|
抽氣速率 |
旋片泵:4L/S |
|
濺射電源配置 |
數量 |
直流電源 x1 |
*大輸出功率 |
150w |
|
其他
|
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
整機尺寸 |
500 X 350 X 400mm |
|
整機重量 |
15kg |
|
整機功率 |
1.5kw |